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Semiconductor device fabrication system and method of forming semiconductor device pattern using the same, and photoresist for manufacturing semiconductor dev

机译:半导体器件制造系统以及使用该半导体器件制造系统形成半导体器件图案的方法以及用于制造半导体器件的光刻胶

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号GB9912579D0

    专利类型

  • 公开/公告日1999-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS COMPANY LIMTED;

    申请/专利号GB19990012579

  • 发明设计人

    申请日1999-05-28

  • 分类号G03F7/40;G03F7/26;H01L21/027;

  • 国家 GB

  • 入库时间 2022-08-22 02:09:17

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