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Photoresist film for deep ultra violet and method for forming photoresist film pattern using the same

机译:用于深紫外线的光致抗蚀剂膜和使用该光致抗蚀剂膜形成光致抗蚀剂膜图案的方法

摘要

A photoresist film superior in etch resistance and PED stability, as well as transmittance to deep UV, having a backbone of polymethylmethacrylate grafted with piperidine moiety of which the nitrogen atom acts as a base.
机译:一种光致抗蚀剂膜,其具有优异的抗蚀刻性和PED稳定性以及对深紫外线的透射率,其主链上接有哌啶基团的聚甲基丙烯酸甲酯,其中氮原子用作碱。

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