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Mixed mode photomask for nikon stepper

机译:尼康步进器的混合模式光罩

摘要

A mixed mode photo-mask for a stepper. Both alignment marks of 15 mm. times.15 mm and alignment marks of 20 mm×20 mm are tooled on the photo mask. The photo mask further comprises a reticle glass plate, a chrome border with a pattern to be transferred, and a pellicle.
机译:步进的混合模式光罩。两个对准标记均为15毫米。在光罩上加工15毫米,对准标记20毫米×20毫米。该光掩模还包括掩模版玻璃板,具有要转印的图案的铬边框和防护膜。

著录项

  • 公开/公告号US5948572A

    专利类型

  • 公开/公告日1999-09-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 UNITED MICROELECTRONICS CORP.;

    申请/专利号US19980008862

  • 发明设计人 KUO-CHENG CHUAN;CHIH-CHIANG LIU;

    申请日1998-01-20

  • 分类号G03F9/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 02:07:21

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