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PULSE POWER SOURCE FOR CONSTANT VOLTAGE ARC ION PLATING

机译:恒定电压电弧离子镀的脉冲电源

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To control a current value without dropping the peak voltage in constant voltage arc ion plating. ;SOLUTION: The discharge current in constant voltage arc ion plating is made freely controllable by a rectangular wave pulse power source in which the peak voltage of the pulse is controlled to -50 to -300 volt, the pulse width is made variable in the range from 15 microsec to 4 millisec, and the pulse interval is made variable in such a manner that the total time in the on state of the pulse voltage is controlled to 1 to 90% in the whole.;COPYRIGHT: (C)2000,JPO
机译:解决的问题:在恒定电压电弧离子镀中控制电流值而不降低峰值电压。 ;解决方案:可通过矩形波脉冲电源自由控制恒压电弧离子镀中的放电电流,在该脉冲电源中,脉冲的峰值电压控制在-50至-300伏,脉冲宽度在此范围内可变从15微秒到4毫秒,并且使脉冲间隔可变,以使脉冲电压导通状态下的总时间总体上控制为1%到90%.;版权所有:(C)2000,JPO

著录项

  • 公开/公告号JP2000303170A

    专利类型

  • 公开/公告日2000-10-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NIHON SEIMITSU CO LTD;

    申请/专利号JP19990226794

  • 发明设计人 SUZUKI AKIRA;

    申请日1999-07-06

  • 分类号C23C14/32;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 02:01:20

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