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PSM An apparatus for measuring phase of a phase shift mask and method for measuring the phase using the same

机译:PSM一种用于测量相移掩模的相位的设备以及使用该设备测量相位的方法

摘要

A PSM phase measuring apparatus and a method of measuring a phase of a PSM using the same are disclosed.;The interferometer consists of two glass layers with silver coating on one side. Then, the phase of the PSM to be measured in parallel with the glass layer is measured between the two glass layers.;Therefore, the cost of constructing the PSM phase measuring apparatus can be very low compared to the prior art, and the phase of the PSM can be accurately measured.
机译:公开了一种PSM相位测量设备以及使用该设备测量PSM相位的方法。干涉仪由在一侧上具有银涂层的两个玻璃层组成。然后,在两个玻璃层之间测量要与玻璃层平行测量的PSM的相位;因此,与现有技术相比,构建PSM相位测量设备的成本可以非常低,并且PSM可以精确测量。

著录项

  • 公开/公告号KR100243269B1

    专利类型

  • 公开/公告日2000-03-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD.;

    申请/专利号KR19960060520

  • 发明设计人 계종욱;

    申请日1996-11-30

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 01:45:05

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