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Methods of forming a film on a substrate using complexes having tris(pyrazolyl) methanate ligands

机译:使用具有三(吡唑基)甲烷酸酯配体的配合物在基材上形成膜的方法

摘要

Methods of forming a film on a substrate using chemical vapor deposition techniques and pyrazolyl complexes. The complexes and methods are particularly suitable for the preparation of semiconductor structures.
机译:使用化学气相沉积技术和吡唑基络合物在基材上形成膜的方法。该配合物和方法特别适合于制备半导体结构。

著录项

  • 公开/公告号US6133161A

    专利类型

  • 公开/公告日2000-10-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MICRON TECHNOLOGY INC.;

    申请/专利号US19980140914

  • 发明设计人 BRIAN A. VAARTSTRA;STEFAN UHLENBROCK;

    申请日1998-08-27

  • 分类号H01L21/324;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 01:35:56

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