首页> 外国专利> Methods and apparatus for minimizing white point defects in quartz glass crucibles

Methods and apparatus for minimizing white point defects in quartz glass crucibles

机译:减少石英玻璃坩埚中白点缺陷的方法和设备

摘要

Methods and apparatus for manufacturing silica crucibles 9 containing few, if any, white point defects. The white point defects are reduced by decreasing the amount of silica vapor condensing on electrodes 4,5,6 used in the manufacturing process. The silica vapor condensation is decreased by providing a flow of a protective or non- reactive gas or gas mixture through protective devices 11,12,13, over portions of the electrodes where the silica vapor would otherwise condense.
机译:制造几乎没有白点缺陷的二氧化硅坩埚9的方法和设备。通过减少在制造过程中使用的电极4,5,6上的二氧化硅蒸气冷凝量,可以减少白点缺陷。通过提供保护性或非反应性气体或气体混合物通过保护装置11、12、13的流动,以减少二氧化硅蒸气的冷凝,在电极的否则二氧化硅蒸气会冷凝的部分上。

著录项

  • 公开/公告号US6143073A

    专利类型

  • 公开/公告日2000-11-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HERAEUS SHIN-ETSU AMERICA;

    申请/专利号US19980195886

  • 发明设计人 ROBERT O. MOSIER;MARC A. CHRISTMAN;

    申请日1998-11-19

  • 分类号C30B15/10;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 01:35:47

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号