Companies; Crystals; Industries; MONOS devices; Silicon; Stress; Thermal stresses; Czochralski; pulling speed; silicon; thermal stress;
机译:双坩埚直拉大直径晶体生长中的热应力抑制
机译:Czochralski技术研究Nd〜(3 +):Gd_3Ga_5O_(12)(Nd:GGG)晶体在不同气体流量和不同坩埚尺寸下生长平坦界面的研究
机译:石英玻璃棒制造的诱导加热拉下炉热优化
机译:用Czochralski方法对不同石英坩埚尺寸的热应力降低热应力的优化
机译:推进建筑集成热电发电系统的设计规模和性能优化方法
机译:等温扩增中反应速度与分析灵敏度之间缺乏相关性揭示了优化数字方法的价值:使用数字实时RT-LAMP进行验证
机译:Czochralski和EFG方法生长半透明氧化物晶体热应力的数值分析