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METHOD FOR FORMING Pb-BASE PEROVSKITE TYPE METAL OXIDE THIN FILM AND Pb-BASE PEROVSKITE TYPE METAL OXIDE THIN FILM

机译:铅基钙钛矿型金属氧化物薄膜的形成方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To crystallize a metal oxide at a low temperature of ≤450°C in a method for forming a Pb-base perovskite type metal oxide thin film by applying a raw material solution for forming the metal oxide thin film on a substrate, then heating the substrate to crystallize the metal oxide. ;SOLUTION: This method for forming the Pb-base perovskite type metal oxide thin film has a stage for applying the raw material for forming the Pb-Ti- base metal oxide thin film on the substrate, then applying a raw material solution for forming the Pb-Zr-Ti-base metal oxide thin film. In the method, a crystallization stage is executed at least one time in such a manner that the thickness of the metal oxide thin film formed by one time of the crystallization stage attains ≤30 nm in the film thickness after the crystallization.;COPYRIGHT: (C)2001,JPO
机译:解决的问题:在用于在Pb基钙钛矿型金属氧化物薄膜上形成Pb基钙钛矿型金属氧化物薄膜的方法中,通过在用于形成Pb基钙钛矿型金属氧化物薄膜的方法中使金属氧化物结晶而在金属氧化物薄膜上形成结晶。衬底,然后加热衬底以使金属氧化物结晶。 ;解决方案:这种形成Pb基钙钛矿型金属氧化物薄膜的方法具有以下步骤:将用于形成Pb-Ti基金属氧化物薄膜的原料涂覆在基板上,然后涂覆用于形成Pb-Ti基钙钛矿型金属氧化物薄膜的原料。 Pb-Zr-Ti基金属氧化物薄膜。在该方法中,以这样的方式至少执行一次结晶阶段,使得由一次结晶阶段形成的金属氧化物薄膜的厚度在结晶之后的膜厚度中达到30 nm。日本特许厅(C)2001

著录项

  • 公开/公告号JP2001139329A

    专利类型

  • 公开/公告日2001-05-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MITSUBISHI MATERIALS CORP;

    申请/专利号JP19990318514

  • 申请日1999-11-09

  • 分类号C01G1/00;C01G25/00;H01B3/12;H01L41/187;H01L41/24;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 01:30:11

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