首页> 外国专利> Automatic tuning method and device for HF impedance matching network for plasma process uses cyclic measurement of electrical parameters and adjustment of tuning components in alternation

Automatic tuning method and device for HF impedance matching network for plasma process uses cyclic measurement of electrical parameters and adjustment of tuning components in alternation

机译:用于等离子体工艺的高频阻抗匹配网络的自动调谐方法和装置,采用电参数的周期性测量和交替调整调谐分量的方法

摘要

The tuning method and device for a HF impedance matching network uses measurement of electrical values required for tuning during the cyclic switching in times, with corresponding adjustment of the electrical tuning components during the switching out times.
机译:用于HF阻抗匹配网络的调谐方法和装置使用在周期性切换期间对调谐所需的电气值的测量,以及在切换时间期间对电气调谐组件的相应调整。

著录项

  • 公开/公告号DE19941542A1

    专利类型

  • 公开/公告日2001-03-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AURION ANLAGENTECHNIK GMBH;

    申请/专利号DE1999141542

  • 发明设计人 GESCHE ROLAND;SCHACHLER EDGAR;

    申请日1999-09-01

  • 分类号H05H1/46;H01J37/32;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-22 01:10:20

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号