首页> 外国专利> Method and system for determining critical area for circuit layouts using voronoi diagrams

Method and system for determining critical area for circuit layouts using voronoi diagrams

机译:使用伏洛诺伊图确定电路布局的关键区域的方法和系统

摘要

A method for computing critical area for shorts of a layout, in accordance with the present invention, includes the steps of computing a Voronoi diagram for the layout, computing a second order Voronoi diagram to arrive at a partitioning of the layout into regions, computing critical area within each region and summing the critical areas to arrive at a total critical area for shorts in the layout. A system is also provided for calculating the critical area.
机译:根据本发明,一种用于计算版图短缺的临界面积的方法包括以下步骤:计算版图的Voronoi图,计算二阶Voronoi图以将版图划分为多个区域,计算临界值。每个区域内的最大面积,并对关键区域求和,得出布局中所有短路的总关键区域。还提供了用于计算临界面积的系统。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号