首页> 外国专利> Method and apparatus for processing flat substrates, especially silicone wafers for producing microelectronic components

Method and apparatus for processing flat substrates, especially silicone wafers for producing microelectronic components

机译:用于处理扁平基板,尤其是用于生产微电子元件的硅晶片的方法和设备

摘要

The invention relates to a method and to a device for treating tabular substrates (5) according to which said substrate (5) is arranged in a narrow gap (62) between two plates (60, 61).
机译:本发明涉及一种用于处理平板状基板(5)的方法和装置,根据该方法和装置,所述基板(5)布置在两个板(60、61)之间的狭窄间隙(62)中。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号