首页> 外国专利> Method of self-assembly silicon quantum dots

Method of self-assembly silicon quantum dots

机译:自组装硅量子点的方法

摘要

A method of self-assembling silicon quantum dots comprises the steps of providing a substrate, forming a thin amorphous Si film, and forming a plurality of Si quantum dots by controlling the energy and the shooting numbers of an excimer laser during an annealing process, wherein the excimer laser emits light on the thin amorphous Si film.
机译:一种自组装硅量子点的方法,包括以下步骤:提供衬底,形成薄的非晶硅膜,以及通过在退火过程中控制准分子激光器的能量和发射数量来形成多个硅量子点,其中准分子激光器在非晶硅薄膜上发光。

著录项

  • 公开/公告号US6375737B2

    专利类型

  • 公开/公告日2002-04-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NATIONAL SCIENCE COUNCIL;

    申请/专利号US20010827582

  • 发明设计人 SI-CHEN LEE;CHAO-YU MENG;AN SHIH;

    申请日2001-04-05

  • 分类号C30B250/20;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:48:46

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号