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PLANTING BASE CONDITIONER AND ADJUSTING METHOD FOR THE PLANTING BASE USING THE CONDITIONER

机译:种植基地调节器及使用该调节器的种植基地的调节方法

摘要

PPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a planting base conditioner for adjusting pH of a planting base where plants are planted such as alkalized soil and to provide an adjusting method for pH of the planting base using the conditioner through lowering pH of a planting base such as soil with high pH to pH area enabling plants to grow and preventing pH from returning to the original alkaline value after the lapse of time. PSOLUTION: This planting base conditioner comprises a pH depressant for lowering pH of an alkaline planting base and a pH rising inhibitor for inhibiting the rise of pH of a planting base lowered by the addition of the pH depressant. PCOPYRIGHT: (C)2003,JPO
机译:

要解决的问题:提供一种用于调节种植碱的土壤等植物的种植基地的pH的种植基地调节剂,并通过降低种植体的pH来提供使用该调节剂的种植基地的pH的调节方法。 pH值到pH值区域较高的土壤(例如土壤),使植物能够生长并防止pH值在经过一段时间后恢复到原始碱值。解决方案:该种植基调理剂包括用于降低碱性种植基的pH的pH降低剂和用于抑制因添加pH降低剂而降低的种植基的pH升高的pH升高抑制剂。

版权:(C)2003,日本特许厅

著录项

  • 公开/公告号JP2003265038A

    专利类型

  • 公开/公告日2003-09-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOHO LEO CO;

    申请/专利号JP20020070300

  • 申请日2002-03-14

  • 分类号A01G1/00;A01G7/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 00:20:17

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