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HIGH-DENSITY ARRAY OF MICRO-MACHINED ELECTRODES FOR NEURAL STIMULATION

机译：用于神经刺激的微加工电极的高密度阵列

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摘要

The present invention is a micro-machined electrode (10) for neural-electronic interfaces which can achieve a ten times lower impedance and higher charge injection limit for a given material and planar area.

机译：本发明是一种用于神经-电子界面的微加工电极（10），对于给定的材料和平面面积，其可以实现低十倍的阻抗和高的电荷注入极限。

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公开/公告号WO02087685A3

专利类型
公开/公告日2003-07-31

原文格式PDF
申请/专利权人 SECOND SIGHT LLC;
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申请/专利号WO2002US14047
发明设计人 HUNG ANDY;ZHOU DAO MIN;GREENBERG ROBERT J.;TALBOT NEIL H.;JUDY JACK W.;
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申请日2002-05-01
分类号A61N1/05;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 23:55:40

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