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Semiconductor device with reference markings for determining positional accuracy of overlaid layers has reference markings allocated to respective different planes

机译:具有用于确定覆盖层的位置精度的参考标记的半导体器件具有分配给各个不同平面的参考标记

摘要

The position of a first reference marking (T1) is used to determining the accuracy of the overlay of one plane (L1) by at least two different planes (L2,L3). Further reference markings (T2,T3) are allocated to respective different planes (L2,L3). The reference markings may be interleaved within each other, and/or arranged point symmetrically. Independent claims are also included for a method of manufacturing a semiconductor device; and for the use of reference markings to determine accuracy of overlay.
机译:第一参考标记(T1)的位置用于确定一个平面(L1)被至少两个不同平面(L2,L3)覆盖的精度。另外的参考标记(T2,T3)被分配给各个不同的平面(L2,L3)。参考标记可以彼此交错和/或对称地布置。还包括用于制造半导体器件的方法的独立权利要求。以及使用参考标记确定覆盖层的准确性。

著录项

  • 公开/公告号DE10137105A1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-02-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;

    申请/专利号DE2001137105

  • 发明设计人 GUTJAHR KARSTEN;FROEHLICH HANS-GEORG;

    申请日2001-07-30

  • 分类号H01L23/544;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 23:42:50

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