要解决的问题:提供一种掩模气相沉积方法,该方法能够缩短掩模气相沉积时间并进行批量生产,同时实现高精度对准。
解决方案:掩模气相沉积方法包括以下步骤:通过台架1的静电引力吸引将要气相沉积的玻璃基板20;放置被吸附的玻璃基板和气相沉积掩模2的步骤;以及汽化有机化合物以形成要进行气相沉积并将其沉积在玻璃基板20上的步骤。在某些情况下,气相沉积掩模具有静电吸盘功能以增强粘合性。
版权:(C)2004,日本特许厅和日本国家唱片公司
公开/公告号JP2004183044A
专利类型
公开/公告日2004-07-02
原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;
申请/专利号JP20020350950
申请日2002-12-03
分类号C23C14/04;H05B33/10;H05B33/14;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 23:29:44