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MASK VAPOR DEPOSITION METHOD AND APPARATUS, MASK AND MASK MANUFACTURING METHOD, DISPLAY PANEL MANUFACTURING APPARATUS, DISPLAY PANEL AND ELECTRONIC EQUIPMENT

机译:面膜蒸气沉积方法和设备,面膜和面膜制造方法,显示面板制造设备,显示面板和电子设备

摘要

PPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask vapor deposition method capable of shortening mask vapor deposition time and performing mass production while realizing alignment of high accuracy. PSOLUTION: The mask vapor deposition method comprises a step of attracting a glass substrate 20 to be vapor-deposited by the electrostatic attractive force of a stage 1, a step of positioning the attracted glass substrate and a vapor deposition mask 2, and a step of vaporizing organic compounds forming an electroluminescence device to be vapor-deposited and depositing it on the glass substrate 20. In some cases, the vapor deposition mask has the electrostatic chuck function to enhance the adhesivity. PCOPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI
机译:

要解决的问题:提供一种掩模气相沉积方法,该方法能够缩短掩模气相沉积时间并进行批量生产,同时实现高精度对准。

解决方案:掩模气相沉积方法包括以下步骤:通过台架1的静电引力吸引将要气相沉积的玻璃基板20;放置被吸附的玻璃基板和气相沉积掩模2的步骤;以及汽化有机化合物以形成要进行气相沉积并将其沉积在玻璃基板20上的步骤。在某些情况下,气相沉积掩模具有静电吸盘功能以增强粘合性。

版权:(C)2004,日本特许厅和日本国家唱片公司

著录项

  • 公开/公告号JP2004183044A

    专利类型

  • 公开/公告日2004-07-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;

    申请/专利号JP20020350950

  • 发明设计人 ATOBE MITSUAKI;YOTSUYA SHINICHI;

    申请日2002-12-03

  • 分类号C23C14/04;H05B33/10;H05B33/14;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 23:29:44

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