首页> 外国专利> Mask vapor deposition method, mask vapor deposition system, mask, process for manufacturing mask, apparatus for manufacturing display panel, display panel, and electronic device

Mask vapor deposition method, mask vapor deposition system, mask, process for manufacturing mask, apparatus for manufacturing display panel, display panel, and electronic device

机译:掩模蒸镀方法,掩模蒸镀系统,掩模,掩模的制造方法,显示面板的制造装置,显示面板以及电子设备

摘要

A method includes a step of attracting a glass substrate 20 that is a subject for deposition using the electrostatic attraction of a stage 1, a step of aligning the attracted glass substrate with a deposition mask 2, and a step of evaporating an organic compound that is a deposition material, used for forming electroluminescent elements so as to deposit the compound on the glass substrate 20. An electrostatic chucking function is provided to the deposition mask according to needs, whereby the adhesion is enhanced.
机译:一种方法包括以下步骤:使用平台 1的静电吸引来吸引作为沉积对象的玻璃基板 20 ; 将被吸引的玻璃基板与玻璃基板对准的步骤。沉积掩模 2 ,以及蒸发作为沉积材料的有机化合物的步骤,该步骤用于形成电致发光元件,以便将该化合物沉积在玻璃基板 20上。 根据需要向沉积掩模提供静电吸盘功能,从而增强了附着力。

著录项

  • 公开/公告号US2004142108A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-07-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ATOBE MITSURO;YOTSUYA SHINICHI;

    申请/专利号US20030720724

  • 发明设计人 MITSURO ATOBE;SHINICHI YOTSUYA;

    申请日2003-11-24

  • 分类号C23C14/32;C23C16/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:21:51

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号