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Mask pattern data creation system and data creation method

机译:掩模图案数据创建系统和数据创建方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask pattern data generation system/method having no-return work on the matching work of mask pattern data.;SOLUTION: The mask pattern data generating system is provided with a conversion table generation processing means 104 for generating process conversion information from layer information data and shrink information data of a main chip side and a hardware macro side, a conversion information addition processing means 106 adding process conversion information to an arrangement information part as additional information and a conversion processing means 107 converting the process of hardware macro pattern data, based on additional information and outputting mask pattern data of the main chip for mounting the hardware macro of the execution result to an outer storage device are installed as a process conversion means 103, which converts hardware macro pattern data of a manufacturing process different from a main chip loading plural hardware macros into the manufacture process of the main chip and arranges it in the lower-order hierarchy of mask pattern data of the main chip.;COPYRIGHT: (C)2001,JPO
机译:解决的问题:提供一种掩模图案数据生成系统/方法,该掩模图案数据生成系统/方法对掩模图案数据的匹配工作不进行任何退回工作。解决方案:掩模图案数据生成系统具有用于生成的转换表生成处理装置104来自主芯片侧和硬件宏侧的层信息数据和收缩信息数据的处理转换信息,转换信息添加处理装置106将处理转换信息作为附加信息添加到布置信息部分,以及转换处理装置107转换处理作为处理转换装置103,安装基于硬件信息的宏图案数据,基于附加信息并输出用于将执行结果的硬件宏安装到外部存储设备的主芯片的掩模图案数据,以转换硬件的宏图案数据。制造工艺不同于装载多个硬件宏i的主芯片在主芯片的制造过程中,并将其排列在主芯片的掩模图案数据的下级层次中。;版权所有:(C)2001,JPO

著录项

  • 公开/公告号JP3542535B2

    专利类型

  • 公开/公告日2004-07-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NECマイクロシステム株式会社;

    申请/专利号JP19990334611

  • 发明设计人 鈴木 恭;

    申请日1999-11-25

  • 分类号H01L21/82;G06F17/50;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 23:26:36

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