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Creation device null of exposure data for mask

机译:创建设备的掩模的曝光数据为空

摘要

PURPOSE: To provide a device capable of forming data for mask exposing from design data of circuit patterns of a sample without making special operation. ;CONSTITUTION: This forming device of exposure data for the mask forms the exposure data for the purpose of providing the mask with original patterns 21 corresponding to the circuit patterns 2 in accordance with the design data of the circuit patterns 20 to be transferred from one sheet of the mask to the sample. The forming device described above is provided with a division form determining means which determines the form of dividing and forming the original patterns 21 in plural small regions 21 of the sizes previously assigned on the mask and an arrangement determining means which determines the arrangement of the small regions 2a on the mask in such a manner that the boundary regions 2b of the prescribed width prohibiting the formation of the original patterns 21 are generated between the small regions 2a.;COPYRIGHT: (C)1995,JPO
机译:目的:提供一种无需进行特殊操作就能够从样品的电路图案的设计数据中形成用于掩模曝光的数据的装置。 ;构成:用于掩模的曝光数据形成装置形成该曝光数据,以根据要从一张转印的电路图案20的设计数据为掩模提供与电路图案2相对应的原始图案21。样品的掩模。上述形成装置具有:分割形式确定装置,其确定在预先分配在掩模上的尺寸的多个小区域21中分割并形成原始图案21的形式;以及布置确定装置,其确定小图案的布置。掩模上的区域2a以这样的方式形成:在小区域2a之间产生具有规定宽度的边界区域2b,该边界区域2b禁止形成原始图案21 。;版权:(C)1995,JPO

著录项

  • 公开/公告号JP3491093B2

    专利类型

  • 公开/公告日2004-01-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社ニコン;

    申请/专利号JP19940060924

  • 发明设计人 中筋 護;

    申请日1994-03-30

  • 分类号G03F1/08;H01L21/027;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 23:23:40

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