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ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELD MATERIAL USING PHOTOCATALYST, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR

机译:利用光催化剂的电磁波屏蔽材料及其制造方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shield material for a PDP which has a high aperture ratio and sufficient electromagnetic wave shielding performance, with a near-infrared ray cut-off function and a reflection preventing function provided, and to provide a method for manufacturing the electromagnetic wave shielding material capable of improving the productivity and reducing the cost by reducing the weight, wall thickness, and the number of components of the PDP. ;SOLUTION: The electromagnetic wave shielding material comprises a translucent base 1, an ultra water-repellent region A and conductive metal fixing region B disposed on the translucent base, and a conductive metal pattern 5 disposed in the conductive metal fixing region.;COPYRIGHT: (C)2004,JPO
机译:解决的问题:提供一种用于PDP的电磁波屏蔽材料,该材料具有高开口率和足够的电磁波屏蔽性能,并具有近红外截止功能和防反射功能,并提供一种方法用于制造能够通过减小PDP的重量,壁厚和组件数量来提高生产率并降低成本的电磁波屏蔽材料。 ;解决方案:电磁波屏蔽材料包括一个半透明的基座1,一个超疏水区域A和一个设置在半透明基座上的导电金属固定区域B和一个设置在导电金属固定区域中的导电金属图案5。日本特许厅(C)2004

著录项

  • 公开/公告号JP2003347789A

    专利类型

  • 公开/公告日2003-12-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHIN ETSU POLYMER CO LTD;

    申请/专利号JP20020155120

  • 发明设计人 MASAHIRO YASUSHI;ODAJIMA SATOSHI;

    申请日2002-05-29

  • 分类号H05K9/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 23:22:59

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