首页> 外国专利> Composition for forming a conjugated polymer pattern and process of forming a conjugated polymer pattern using the same

Composition for forming a conjugated polymer pattern and process of forming a conjugated polymer pattern using the same

机译:用于形成共轭聚合物图案的组合物以及使用该组合物形成共轭聚合物图案的方法

摘要

The present invention relates to a composition for forming a conjugated polymer pattern and a pattern formation process. More specifically, the present invention relates to a composition for forming a pattern of conjugated polymer, comprising a precursor polymer of a certain structure and a photobase generator, and a process of forming a pattern using the same. In accordance with the present invention, not only can a pattern of the conjugated polymer be formed with ease, but the pattern produced thereby can be used advantageously in organo-electric devices, for example, a memory device, a sensor, a solar cell, a storage battery, organic EL, and so forth. Also, when being used in an organic EL device, it shows not only a higher EL efficiency but a lower threshold voltage.
机译:本发明涉及用于形成共轭聚合物图案的组合物和图案形成方法。更具体地,本发明涉及用于形成共轭聚合物的图案的组合物,其包括某种结构的前体聚合物和光碱产生剂,以及使用该组合物形成图案的方法。根据本发明,不仅可以容易地形成共轭聚合物的图案,而且由此产生的图案可以有利地用于有机电器件中,例如存储器件,传感器,太阳能电池,蓄电池,有机EL等。而且,当用于有机EL器件中时,它不仅显示出更高的EL效率,而且显示出更低的阈值电压。

著录项

  • 公开/公告号US2004180984A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-09-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;

    申请/专利号US20030732227

  • 发明设计人 SANG KYUN LEE;KI YONG SONG;

    申请日2003-12-11

  • 分类号C08J3/28;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:22:28

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号