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Reduced gate leakage current in thin gate dielectric CMOS integrated circuits

机译:降低薄栅介质CMOS集成电路中的栅极泄漏电流

摘要

The invention describes a method for reducing the leakage current in thin gate dielectric MOS capacitors in integrated circuits. A bias voltage is determined for the MOS capacitor such that the capacitor area and leakage current constraints are satisfied. The MOS capacitor is not biased in inversion.
机译:本发明描述了一种用于减小集成电路中的薄栅极电介质MOS电容器中的泄漏电流的方法。确定MOS电容器的偏置电压,从而满足电容器面积和泄漏电流约束。 MOS电容器的反相不偏置。

著录项

  • 公开/公告号US2004067600A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-04-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CHATTERJEE AMITAVA;

    申请/专利号US20020265850

  • 发明设计人 AMITAVA CHATTERJEE;

    申请日2002-10-07

  • 分类号H01L21/66;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:14:54

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