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Wafer polishing apparatus utilizing an Oldham's coupling mechanism for the wafer carrier

机译:利用Oldham耦合机构的晶片载体的晶片抛光装置

摘要

A rotation force of a drive shaft is transmitted from a drive plate to an intermediate plate through a first pin, and a rotation force of the intermediate plate is transmitted to a carrier through a second pin. The rotation force of the drive shaft is transmitted to the carrier through an Oldham's coupling mechanism; thereby, a wafer polishing apparatus can always rotate the carrier in a stable condition even though a wafer receives a friction force in side directions from a polishing pad because no twisting force is applied to the drive shaft.
机译:驱动轴的旋转力通过第一销从驱动板传递到中间板,并且中间板的旋转力通过第二销传递到托架。驱动轴的旋转力通过奥尔德姆联轴器传递到齿轮架上。因此,即使晶片从抛光垫沿侧向受到摩擦力,晶片抛光装置也可以始终在稳定的状态下旋转载体,因为没有扭转力施加到驱动轴上。

著录项

  • 公开/公告号US6702658B2

    专利类型

  • 公开/公告日2004-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOKYO SEIMITSU CO. LTD.;

    申请/专利号US20010996797

  • 发明设计人 MINORU NUMOTO;

    申请日2001-11-30

  • 分类号B24B470/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:13:04

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