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LOW EMITTER RESISTANCE CONTACTS TO GAAS HIGH SPEED HBT

机译:低辐射电阻,可与Gaas高速HBT接触

摘要

A heterojunction bipolar transistor, (40), is provided having an improved current gain cutoff frequency. The heterojunction bipolar transistor, (40), shown in Figure 1, includes a contact region layer (22), formed from InGaAsSb. The contact region, (20/22), allows an emitter region, (18), of the heterojunction bipolar transistor, (40), to realize a lower contact resistance value to yield an improved cutoff frequency (fT).
机译:提供了具有改善的电流增益截止频率的异质结双极晶体管(40)。图1所示的异质结双极晶体管(40)包括由InGaAsSb形成的接触区域层(22)。接触区域(20/22)允许异质结双极晶体管(40)的发射极区域(18)实现较低的接触电阻值以产生改善的截止频率(fT)。

著录项

  • 公开/公告号WO03009368A3

    专利类型

  • 公开/公告日2003-11-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MICROLINK DEVICES INC.;

    申请/专利号WO2002US23278

  • 发明设计人 HAN BYUNG-KWON;PAN NOREN;

    申请日2002-07-22

  • 分类号H01L21/338;H01L21/28;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 23:00:38

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