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Diode used as a pn-barrier layer diode comprises a semiconductor substrate, strip diffusion regions, first electrodes connected to the diffusion regions, and a second electrode

机译:用作pn势垒层二极管的二极管包括半导体衬底,条形扩散区,连接到扩散区的第一电极和第二电极

摘要

Diode comprises a semiconductor substrate (1) of a first or second conductivity, first and second strip diffusion regions (2, 3), first electrodes (7a, 7b) which are removed from the semiconductor substrate and connected to the diffusion regions, and a second electrode (7b') which covers the ends of the diffusion regions next to an insulating layer (5). Independent claims are also included for the following: (1) Alternative diodes; and (2) Process for the production of the diode
机译:二极管包括具有第一或第二导电性的半导体衬底(1),第一和第二条带扩散区域(2、3),从半导体衬底去除并连接到扩散区域的第一电极(7a,7b),以及第二电极(7b’)覆盖扩散区的靠近绝缘层(5)的端部。还包括以下方面的独立权利要求:(1)替代二极管; (2)二极管的制造方法

著录项

  • 公开/公告号DE10334415A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-04-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DENSO CORP. KARIYA;

    申请/专利号DE2003134415

  • 发明设计人 ABE RYUICHIRO;KOUNO KENJI;

    申请日2003-07-28

  • 分类号H01L29/861;H01L21/329;H01L23/62;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 22:43:14

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