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Multi-circulation arc control for production of balanced plasma, uses annular reaction chamber with gas injection pressure regulation and control of rate of removal of gas from chamber

机译:用于产生平衡等离子体的多循环电弧控制,使用具有注气压力调节功能的环形反应室,并控制从室中去除气体的速率

摘要

The plasma generator has an annular reaction chamber (2) with annular electrodes (3). A controllable injection nozzle (8) is tangential to the chamber. The pressure differential between gas in the chamber and in the injector is regulated. Ejection (6) of gas from the reaction chamber sets the gas in reaction chamber in rotation, and the speed can be controlled by the rate of ejection.
机译:等离子体发生器具有带有环形电极(3)的环形反应室(2)。可控制的喷嘴(8)与腔室相切。调节腔室和喷射器中气体之间的压力差。来自反应室的气体的喷射(6)使反应室中的气体旋转,并且可以通过喷射速率来控制速度。

著录项

  • 公开/公告号FR2848060A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-06-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RAYBAUD JEAN CLAUDE;

    申请/专利号FR20020015213

  • 发明设计人 RAYBAUD JEAN CLAUDE;

    申请日2002-12-03

  • 分类号H05H1/42;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-21 22:39:21

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