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Semiconductor device e.g. metal insulator semiconductor transistor has source/drain active layers that contacts with element isolation region at boundary forming obtuse angle or curve region

机译:半导体器件金属绝缘体半导体晶体管具有源/漏有源层,其在形成钝角或弯曲区域的边界处与元件隔离区域接触

摘要

The source/drain active layers (6c1,6d1) and element isolation region (5b) are incontact with each other at the boundary forming an obtuse angle or curve region.
机译:源极/漏极有源层(6c1、6d1)和元件隔离区域(5b)在形成钝角或曲线区域的边界处彼此接触。

著录项

  • 公开/公告号FR2849274A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-06-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA;

    申请/专利号FR20030006405

  • 发明设计人 IWAMATSU TOSHIAKI;

    申请日2003-05-27

  • 分类号H01L29/417;H01L29/78;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-21 22:39:16

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