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Stabilization of electronegative plasmas with feedback control of RF generator systems

机译:通过射频发生器系统的反馈控制来稳定负电等离子体

摘要

A method for controlling a plasma used for materials processing includes generating a power for forming an electronegative plasma, detecting a signal that is related to a parameter of the plasma, and modulating the power generated in response to the signal. Modulation of the power causes a reduction in an instability of the parameter of the plasma. An apparatus for controlling a materials processing electronegative plasma includes a signal detector for detecting a signal that is related to a parameter of the plasma, and a power modulator for causing a modulation of the power for forming the plasma in response to the signal.
机译:一种用于控制用于材料处理的等离子体的方法,包括:产生用于形成负电等离子体的功率;检测与等离子体的参数有关的信号;以及调制响应于该信号而产生的功率。功率的调制引起等离子体参数的不稳定性的降低。一种用于控制材料处理负电等离子体的设备,包括:信号检测器,用于检测与等离子体的参数有关的信号;以及功率调制器,用于响应于该信号而对用于形成等离子体的功率进行调制。

著录项

  • 公开/公告号US2005103439A1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-05-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DANIEL GOODMAN;

    申请/专利号US20040020376

  • 发明设计人 DANIEL GOODMAN;

    申请日2004-12-22

  • 分类号H01L21/306;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 22:26:03

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