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Vacuum arc vapor deposition apparatus and vacuum arc vapor deposition method

机译:真空电弧气相沉积设备和真空电弧气相沉积方法

摘要

A vacuum arc vapor deposition apparatus includes a plurality of magnetic coils for guiding a plasma produced by a vacuum arc evaporating source to the vicinity of a substrate in a film forming chamber by use of a deflection magnetic field. The vacuum arc vapor deposition apparatus further includes a coil power source for reversing a coil current to be fed to the magnetic coils, and a control unit for controlling the coil power source to reverse the flowing direction of the coil current.
机译:真空电弧气相沉积设备包括多个电磁线圈,用于利用偏转磁场将由真空电弧蒸发源产生的等离子体引导到成膜室中的基板附近。真空电弧气相沉积设备还包括:线圈电源,用于使要馈送到电磁线圈的线圈电流反向;以及控制单元,用于控制线圈电源以使线圈电流的流动方向反向。

著录项

  • 公开/公告号US6866753B2

    专利类型

  • 公开/公告日2005-03-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KOJI MIYAKE;

    申请/专利号US20030658410

  • 发明设计人 KOJI MIYAKE;

    申请日2003-09-10

  • 分类号C23C16/32;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 22:21:08

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