机译:当构成要素置于真空环境中时,构成要素的制备方法,构成要素,光刻设备和制造设备以大幅度减少水或碳氢的逸出量的方法
公开/公告号KR20040096772A
专利类型
公开/公告日2004-11-17
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML NETHERLANDS B.V.;
申请/专利号KR20040032143
发明设计人 DAMS JOHANNES ADRIANUS ANTONIUS THEODORUS;VOORMA HARM JAN;KROON MARK;SPEE CAROLUS IDA MARIA ANTONIUS;
申请日2004-05-07
分类号H01L21/027;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 22:06:31