ALD EQUIPMENT WITH ENHANCED MECHANISM FOR MINIMIZING COEXISTING REGION OF SOURCE GAS AND REACTION GAS AND METHOD OF DEPOSITING THIN FILM USING THE SAME

机译： 能够通过缩短源气体和反应气体之间的反应时间来提高沉积速率的薄膜制造装置以及使用该薄膜沉积薄膜的方法

机译： 薄膜形成装置，用于通过将源区域中形成的反应气体移动到生长区域而在基质上形成所需的薄膜

机译： 降低源气体和反应气体的排放速度的气体注入头以及包括该气体注入头的用于沉积薄膜的原子层沉积设备