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METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE TO PREVENT RESIST PATTERN FROM COLLAPSING WHEN SUBSTRATE IS ROTATED IN DRY PROCESS

机译：在干燥过程中旋转基板时形成半导体器件的电阻图案以防止塌陷的方法

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公开/公告号KR20050001187A

专利类型
公开/公告日2005-01-06

原文格式PDF
申请/专利权人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC.;
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申请/专利号KR20030042759
发明设计人 CHO YOUNG JAE;
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申请日2003-06-27
分类号H01L21/027;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 22:06:07

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