退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:具有MIM模式的半导体器件中具有整体平面化能力的层间介电层的平面化方法
公开/公告号KR20050012639A
专利类型
公开/公告日2005-02-02
原文格式PDF
申请/专利权人 MAGNACHIP SEMICONDUCTOR LTD.;
申请/专利号KR20030051776
发明设计人 KWON BYOUNG HO;
申请日2003-07-26
分类号H01L21/304;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 22:05:53
机译: 形成半导体器件的层间电介质以改善层间电介质的平面化的方法
机译: 半导体装置的薄膜和层间介电体的形成方法及低介电常数的平面化方法
机译: 形成半导体器件金属互连的方法,以形成低介电常数的层间电介质,良好的平面化特性,具有较高和较低互连材料的良好粘结性以及热稳定性