首页> 外国专利> METHOD FOR PLANARIZING INTERLAYER DIELECTRIC WITH GLOBAL PLANARIZATION CAPABILITY IN SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING MIM PATTERN

METHOD FOR PLANARIZING INTERLAYER DIELECTRIC WITH GLOBAL PLANARIZATION CAPABILITY IN SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING MIM PATTERN

机译:具有MIM模式的半导体器件中具有整体平面化能力的层间介电层的平面化方法

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号KR20050012639A

    专利类型

  • 公开/公告日2005-02-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MAGNACHIP SEMICONDUCTOR LTD.;

    申请/专利号KR20030051776

  • 发明设计人 KWON BYOUNG HO;

    申请日2003-07-26

  • 分类号H01L21/304;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 22:05:53

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号