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Non-volatile and non-uniform trapped-charge memory cell structure and method of fabrication

机译:非易失性和非均匀俘获电荷存储单元结构及其制造方法

摘要

A memory cell having a charge-trapping structure in the form of a layer of conductive clusters disposed between upper and lower insulator layers is disclosed. The memory cell can otherwise be constructed and operated similarly to a nitride read-only memory cell.
机译:公开了一种存储器单元,其具有布置在上绝缘体层和下绝缘体层之间的导电簇层形式的电荷捕获结构。否则,存储单元可以类似于氮化物只读存储单元来构造和操作。

著录项

  • 公开/公告号US2006054963A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-03-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RONG A. QIAN;YEN-HUI KU;

    申请/专利号US20040938325

  • 发明设计人 YEN-HUI KU;RONG A. QIAN;

    申请日2004-09-10

  • 分类号H01L29/76;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:47:44

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