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METHOD FOR THE PRODUCTION A NANOELEMENT FIELD EFFECT TRANSISTOR, NANOELEMENT-FIELD EFFECT TRANSISTOR AND SURROUNDED GATE STRUCTURE

机译:生产纳米元件场效应晶体管,纳米元件场效应晶体管和围栅结构的方法

摘要

A nanoelement field effect transistor includes a nanotube disposed on the substrate. A first source/drain region is coupled to a first end portion of the nanoelement and a second source/drain region is coupled to a second end portion of the nanoelement. A recess in a surface region of the substrate is arranged in such a manner that a region of the nanoelement arranged between the first and second end portions is taken out over the entire periphery of the nanoelement. A gate-insulating structure covers the periphery of the nanoelement and a gate structure covers the periphery of the gate-insulating structure.
机译:纳米元件场效应晶体管包括设置在基板上的纳米管。第一源/漏区耦合至纳米元件的第一端部,第二源/漏区耦合至纳米元件的第二端部。以这样的方式布置在基板的表面区域中的凹部:使得布置在第一端部和第二端部之间的纳米元件的区域在纳米元件的整个外围上被取出。栅极绝缘结构覆盖纳米元件的外围,并且栅极结构覆盖栅极绝缘结构的外围。

著录项

  • 公开/公告号EP1702371A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-09-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 QIMONDA AG;

    申请/专利号EP20050700516

  • 发明设计人 KREUPL FRANZ;SEIDEL ROBERT;

    申请日2005-01-03

  • 分类号H01L51/05;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 21:26:45

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