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Polarization modulation photoreflectance characterization of semiconductor electronic interfaces

机译:半导体电子界面的偏振调制光反射特性

摘要

A polarization modulation photoreflectance technique has been developed for optical characterization of semiconductor electronic interfaces. By using a laser source in conjunction with polarization state modulation, a polarization modulation spectroscopy technique may be used to characterize the optical response of semiconductor materials and structures. Disclosed methods and instruments are suitable for characterization of optical signatures of electronic interfaces, including characterization of electric fields at semiconductor interfaces.
机译:偏振调制光反射技术已经被开发用于半导体电子界面的光学表征。通过结合使用激光源和偏振态调制,可以使用偏振调制光谱技术来表征半导体材料和结构的光学响应。所公开的方法和仪器适用于表征电子界面的光学特征,包括表征半导体界面处的电场。

著录项

  • 公开/公告号US7239392B2

    专利类型

  • 公开/公告日2007-07-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WILLIAM W. CHISM II;

    申请/专利号US20050098764

  • 发明设计人 WILLIAM W. CHISM II;

    申请日2005-04-04

  • 分类号G01J4/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:01:10

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