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Method for forming thin-film, apparatus for forming thin-film, method for manufacturing semiconductor device, electro-optical unit, and electronic apparatus

机译:薄膜的形成方法,薄膜的形成装置,半导体装置的制造方法,电光单元及电子设备

摘要

The invention provides a method of forming a high-performance thin-film at low cost using a liquid material in safety, an apparatus to form a thin-film, a method of manufacturing a semiconductor device, an electro-optical unit, and an electronic apparatus.;An apparatus to form a thin-film includes a coating unit to apply a liquid material containing a thin-film component onto a substrate and also includes heat-treating units to heat the substrate applied with the liquid material. The coating unit and the heat-treating units each include a control device to control the atmosphere in a treating chamber to treat the substrate.
机译:本发明提供一种安全地使用液体材料以低成本形成高性能薄膜的方法,一种形成薄膜的设备,一种制造半导体器件的方法,一种电光单元和一种电子设备。形成薄膜的设备包括:涂覆单元,用于将包含薄膜成分的液体材料涂覆到基板上;还包括热处理单元,用于加热涂覆有液体材料的基板。涂覆单元和热处理单元均包括控制装置,以控制处理室中的气氛以处理基板。

著录项

  • 公开/公告号US7141492B2

    专利类型

  • 公开/公告日2006-11-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ICHIO YUDASAKA;

    申请/专利号US20030419123

  • 发明设计人 ICHIO YUDASAKA;

    申请日2003-04-21

  • 分类号H01L21/20;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 20:59:48

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