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MULTIPLE SHADOW MASK STRUCTURE FOR DEPOSITION SHADOW MASK PROTECTION AND METHOD OF MAKING AND USING SAME

机译:用于沉积阴影掩模保护的多重阴影掩模结构及其制造和使用方法

摘要

The present invention is a multi-layer shadow mask and method of use thereof. The multi-layer shadow mask includes a sacrificial mask bonded to a deposition mask. The sacrificial mask provides protection against an accumulation of evaporant on the deposition mask which would cause the deposition mask to deform.
机译:本发明是一种多层荫罩及其使用方法。多层阴影掩模包括结合到沉积掩模的牺牲掩模。牺牲掩模提供了防止蒸发剂在沉积掩模上积聚的保护,这会导致沉积掩模变形。

著录项

  • 公开/公告号WO2006058081A3

    专利类型

  • 公开/公告日2007-05-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ADVANTECH GLOBAL LTD.;CONRAD JEFFREY W.;

    申请/专利号WO2005US42468

  • 发明设计人 CONRAD JEFFREY W.;

    申请日2005-11-22

  • 分类号H01L21/00;H01L21/44;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 20:52:27

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