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MULTILEVEL NONVOLATILE MEMORY CELL COMPRISING A RESISTIVITY- SWITCHING OXIDE OR NITRIDE AND AN ANTIFUSE

机译:包含电阻率转换氧化物或氮化物和抗氧化剂的多级非易失性记忆细胞

摘要

A nonvolatile memory cell includes a layer (118) of a resistivity-switching metal oxide or nitride compound, the metal oxide or nitride compound including one metal, and a dielectric rupture antifuse (117) formed in series. The dielectric rupture antifuse may be either in its initial, non-conductive state or a ruptured, conductive state. The resistivity-switching metal oxide or nitride layer can be in a higher- or lower-resistivity state. By using both the state of the resistivity- switching layer and the antifuse to store data, more than two bits can be stored per memory cell.
机译:非易失性存储单元包括电阻率切换金属氧化物或氮化物化合物层(118),包括一种金属的金属氧化物或氮化物化合物以及串联形成的介电断裂反熔丝(117)。介电破裂反熔丝可以处于其初始的非导电状态或破裂的导电状态。电阻率切换金属氧化物或氮化物层可以处于较高或较低电阻率的状态。通过同时使用电阻率转换层和反熔丝的状态来存储数据,每个存储单元可以存储两个以上的位。

著录项

  • 公开/公告号WO2007126669A1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANDISK 3D LLC;HERNER BRAD S.;

    申请/专利号WO2007US07109

  • 发明设计人 HERNER BRAD S.;

    申请日2007-03-22

  • 分类号H01L27/24;H01L45/00;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 20:45:38

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