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A method for calculating a model spectrum

机译:一种模型光谱的计算方法

摘要

In the case of technical surfaces, in particular in the field of semiconductor production, it is frequently necessary to determine the reflection coefficients. For this purpose, a model of an object from a plurality of wavelengths, and a defined number of interpolation points is calculated. In order to increase the speed in the calculation, before carrying out the calculation of the defined number of interpolation points is calculated.
机译:在技​​术表面的情况下,特别是在半导体生产领域中,经常需要确定反射系数。为此,计算来自多个波长的对象的模型以及定义数量的插值点。为了提高计算速度,在计算定义的插补点数之前先进行计算。

著录项

  • 公开/公告号DE102006003473A1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-08-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号DE20061003473

  • 发明设计人

    申请日2006-01-25

  • 分类号G01B11/06;G01J3/42;G01N21/47;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 20:29:29

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