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Method for calculating a model spectrum

机译:模型光谱的计算方法

摘要

With technical surfaces, in particular in semiconductor manufacture, it is a regular requirement to determine the reflection coefficient. For this purpose, a model spectrum of an object of a plurality of wavelengths and a defined number of intermediate points is calculated. To increase the calculating speed, the defined number of intermediate points is calculated prior to the execution of the calculation.
机译:对于工业表面,特别是在半导体制造中,通常需要确定反射系数。为此,计算具有多个波长和限定数量的中间点的物体的模型光谱。为了提高计算速度,在执行计算之前先计算定义的中间点数。

著录项

  • 公开/公告号US7561984B2

    专利类型

  • 公开/公告日2009-07-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CHRISTIAN HALM;

    申请/专利号US20070655984

  • 发明设计人 CHRISTIAN HALM;

    申请日2007-01-22

  • 分类号G06F19/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 19:31:31

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