要解决的问题:提供一种提高生产率的垂直反应器半导体制造系统,并提供一种使用该系统的批量晶片转移处理方法。解决方案:垂直炉半导体制造系统包括操作员界面服务器10,该操作员界面服务器10输入处理条件,检查是否使用监控晶片,并生成输入的批数和“跟踪”。 “命令;主机14,其通过从操作员接口服务器10接收命令来控制处理设备,收集从处理设备生成的数据以将其提供给操作员接口服务器10,并进行控制以成批地转移晶片载体在从操作员接口服务器10输入“跟踪”命令时,在全部存储与一批对应的晶片载体之前,处理装置16,其通过主计算机14的控制指令将晶片搬运器分批搬运,从而将晶片存放在晶片舟皿中。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2008270800A
专利类型
公开/公告日2008-11-06
原文格式PDF
申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD;
申请/专利号JP20080102982
申请日2008-04-11
分类号H01L21/02;H01L21/31;H01L21/677;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 20:21:55