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Containment electroless deposition treatment manner and the electroless deposition

机译:密闭化学沉积处理方式及化学沉积

摘要

After the processing element, was fed an additive containing a reducing agent, and provides a solution containing metal ions such as copper sulfate solution to the processing element. In order to separate the solution containing metal ions and additives, the adjustment of the composition of the plating solution can be easily.
机译:在处理元件之后,进料包含还原剂的添加剂,并向处理元件提供包含金属离子的溶液,例如硫酸铜溶液。为了分离包含金属离子和添加剂的溶液,可以容易地调节镀覆溶液的组成。

著录项

  • 公开/公告号JP4083016B2

    专利类型

  • 公开/公告日2008-04-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 東京エレクトロン株式会社;

    申请/专利号JP20020562797

  • 发明设计人 佐藤 浩;

    申请日2002-01-29

  • 分类号C23C18/31;H01L21/288;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 20:17:30

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