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Orientated group IV-VI semiconductor structure, and method for making and using the same

机译:取向IV-VI族半导体结构及其制造和使用方法

摘要

A method of growing and fabricating a group IV-VI semiconductor structure, for use in fabricating devices. In one embodiment, the group IV-VI semiconductor structure produced by the method of the present invention includes a group IV-VI material grown on a selected orientation of [110]. The devices fabricated can be a laser, detector, solar cell, thermal electrical cooling devices, etc. A laser device produced according to the present method will have a low threshold due to the lift-off of the energy degeneracy and low defect density. Growth on the [110] orientation also allows epitaxial growth of the semiconductor structure on a dissimilar substrate, which could improve the thermal dissipation and thus increase the operating temperature of the laser device.
机译:一种生长和制造用于制造器件的IV-VI族半导体结构的方法。在一个实施例中,通过本发明的方法生产的IV-VI族半导体结构包括在选定的[110]取向上生长的IV-VI族材料。所制造的装置可以是激光器,探测器,太阳能电池,热电冷却装置等。根据本方法制造的激光器装置由于能量简并性的提升和低缺陷密度而将具有低阈值。在[110]方向上的生长还允许在异种衬底上外延生长半导体结构,这可以改善散热并因此提高激光装置的工作温度。

著录项

  • 公开/公告号US7400663B2

    专利类型

  • 公开/公告日2008-07-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ZHISHENG SHI;

    申请/专利号US20050051826

  • 发明设计人 ZHISHENG SHI;

    申请日2005-02-04

  • 分类号H01S5/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 20:11:15

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