要解决的问题:提供一种创建光掩模布局的方法,一种存储用于执行上述方法的编程指令的计算机可读记录介质以及一种掩模成像系统。解决方案:用于创建光掩模布局的方法包括以下步骤:提供包括主图案和子分辨率辅助特征(SRAF)图案的第一光掩模布局;以及通过将第一光掩模布局划分为多个区域来定义多个网格单元;生成基于规则的表,该表包括用于校正多个网格单元中的至少一个的SRAF图案中的缺陷的校正信息;通过将校正信息的值应用于与每个网格单元相对应的SRAF图案来校正SRAF图案。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2009058957A
专利类型
公开/公告日2009-03-19
原文格式PDF
申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD;
申请/专利号JP20080219794
发明设计人 BANG JU-MI;
申请日2008-08-28
分类号G03F1/08;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:44:52