首页> 外国专利> DEFECT RELEVANCE DISPLAYING APPARATUS, SUBSTRATE TESTING APPARATUS, AND DEFECT RELEVANCE DISPLAYING METHOD

DEFECT RELEVANCE DISPLAYING APPARATUS, SUBSTRATE TESTING APPARATUS, AND DEFECT RELEVANCE DISPLAYING METHOD

机译:缺陷相关性显示设备,基体测试设备和缺陷相关性显示方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily confirm or analyze relevance between front-surface defect and rear-surface defect.;SOLUTION: A front-surface image 202 of the front surface 101 of a semiconductor wafer 100 and a rear-surface image 201b of the rear-surface 102 that is obtained by mirror-image conversion of the rear-surface image 201a are displayed. A mark for indicating relationship between a front-surface defect 204 and a rear-surface defect 203a (203b) is further displayed based on a relative position of the front-surface defect 204 within the displayed front-surface image 202 and a relative position of the rear-surface defect 203b within the displayed rear-surface image 201b.;COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
机译:解决的问题:为了容易地确认或分析表面缺陷和背面缺陷之间的相关性;解决方案:半导体晶片100的表面101的正面图像202和半导体晶片100的背面图像201b。显示通过后表面图像201a的镜像转换获得的后表面102。基于所显示的前表面图像202内的前表面缺陷204的相对位置和前表面缺陷204的相对位置,进一步显示用于指示前表面缺陷204与后表面缺陷203a(203b)之间的关系的标记。所显示的背面图像201b中的背面缺陷203b 。;版权:(C)2010,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2009224476A

    专利类型

  • 公开/公告日2009-10-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OLYMPUS CORP;

    申请/专利号JP20080066016

  • 发明设计人 TSUJI HARUYUKI;

    申请日2008-03-14

  • 分类号H01L21/66;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 19:43:45

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号