要解决的问题:提供一种遮光构件的制造方法,该遮光构件可以制造具备与基材的密合性和光学牢固性优异,且表面硬度和耐光性优异的含金属粒子的膜的遮光材料。通过简单的过程对各种波长的光屏蔽性。
解决方案:制备遮光材料的方法包括:步骤(a),使能够通过曝光产生自由基的基材表面与具有能够进行自由基聚合的不饱和部分的化合物接触;然后,通过吸附金属离子或金属盐的部分,进行曝光,从而在基材上生成直接键合的聚合物,从而形成聚合物层。步骤(b),其中将金属离子或金属盐赋予聚合物层;步骤(c),还原金属盐中的金属离子或金属离子,使金属颗粒沉淀。步骤(d),使金属粒子析出后,对构成聚合物层的聚合物中的一价金属盐结构进行选自多价金属交联处理,化学改性和酸处理中的一种。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2009084138A
专利类型
公开/公告日2009-04-23
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJIFILM CORP;
申请/专利号JP20080048111
发明设计人 MATSUSHITA YASUAKI;
申请日2008-02-28
分类号C03C17/38;B32B5/16;B32B15/08;C23C18/18;G03F1/08;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:42:45