首页> 外国专利> METHOD OF MAKING AN INTEGRALLY GATED CARBON NANOTUBE FIELD IONIZER DEVICE

METHOD OF MAKING AN INTEGRALLY GATED CARBON NANOTUBE FIELD IONIZER DEVICE

机译:制作集成门碳纳米管场电离器的方法

摘要

A method of making an integrally gated carbon nanotube field ionization device comprising forming a first insulator layer on a first side of a substrate, depositing a conductive gate layer on the first insulator layer, forming a cavity in the substrate by etching a second side of the substrate to near the first insulator layer, wherein the second side is opposite the first side and wherein a portion of the first insulator is over the cavity, etching an aperture in the portion of the first insulator layer and the conductive gate layer to form an aperture sidewall, depositing a second insulator layer, removing the second insulator layer from the top surface, depositing a metallization layer over the second insulator layer, depositing a catalyst layer on the metallization layer and growing a carbon nanotube from the catalyst layer.
机译:一种制造整体栅极碳纳米管场电离器件的方法,包括在衬底的第一面上形成第一绝缘层,在第一绝缘层上沉积导电栅层,通过蚀刻衬底的第二面在衬底上形成空腔。衬底靠近第一绝缘体层,其中第二侧面与第一侧面相对,并且其中第一绝缘体的一部分在腔上方,在第一绝缘体层的一部分和导电栅层中蚀刻孔以形成孔在侧壁上,沉积第二绝缘体层,从顶表面去除第二绝缘体层,在第二绝缘体层上方沉积金属化层,在金属化层上沉积催化剂层,并从催化剂层生长碳纳米管。

著录项

  • 公开/公告号US2009224225A1

    专利类型

  • 公开/公告日2009-09-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DAVID S.Y. HSU;JONATHAN L. SHAW;

    申请/专利号US20090420160

  • 发明设计人 DAVID S.Y. HSU;JONATHAN L. SHAW;

    申请日2009-04-08

  • 分类号H01L29/41;H01L21/28;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 19:34:44

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号