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机译:氮化物的深共熔生长
公开/公告号US2009050050A1
专利类型
公开/公告日2009-02-26
原文格式PDF
申请/专利权人 GLEN A. SLACK;SANDRA B. SCHUJMAN;
申请/专利号US20080126334
发明设计人 SANDRA B. SCHUJMAN;GLEN A. SLACK;
申请日2008-05-23
分类号H01B1/06;C30B9/04;
国家 US
入库时间 2022-08-21 19:33:29
机译: 氮化物晶体的深共熔熔体生长
机译: 从熔体中生长晶体,特别是用于生长可用于大型功率电子组件的大型碳化硅或氮化铝晶体的过程,包括从材料在基板上生长的晶体尖端横向生长
机译: 用于氮化镓单晶生长的熔体组合物和用于生长氮化镓单晶的方法